PZSSS TECHNOLOGY

核心技术
Sol-Gel & PECVD 双平台

依托国际领先的溶胶-凝胶与等离子体增强沉积工艺,实现纳米涂层在分子级别的精准控制。

两大核心技术平台

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Sol-Gel 溶胶-凝胶技术

通过前驱体在液相中的水解缩合反应,形成纳米级网络结构。工艺温度低、成分均匀可控,适用于多种基材的功能性涂覆。可精确控制涂层厚度在50-500nm范围内。

PECVD 等离子体增强沉积

利用低温等离子体激活化学反应,实现纳米薄膜的精准沉积。膜层致密度高、附着力强(5B级),涂层均匀性优异,适合批量工业化生产。

核心参数

50-500nm
涂层厚度
5B
附着力等级
>105°
接触角
9H
铅笔硬度

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